OPTICS应用案例系列
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19Www.edmundoptics.cn产品视频资源计算器等离子体溅射等离子体溅射是一系列技术的总称,例如高级等离子体溅射和磁控管溅射。不管是哪种技术,都包括等离子体的产生。等离子体中的离子经加速射入源材料中,撞击松散的能量源离子,然后溅射到目标光学元件上。 虽然不同类型的等离子体溅射具有其独特的性质和优缺点,不过我们可以将这些技术集合在一起,因为它们具有共同的工作原理,它们之间的差异,相比这种镀膜技术与本文中涉及的其他镀膜技术之间的差异小得多。原子层沉积与蒸发沉积不同,用于原子层沉积(ALD)的源材料不需要从固体中蒸发出来,而是直接以气体的形式存在。尽管该技术使用的是气体,真空室中仍然需要很高的温度。在ALD过程中,气相前驱体通过非重叠式的脉冲进行传递,且脉冲具有自限制性。这种工艺拥有独特的化学性设计,每个脉冲只粘附一层,并且对光学件表面的几何形状没有特殊要求。因此这种工艺使得我们可以高度的对镀层厚度和设计进行控制,但是会降低沉积的速率。亚波长结构化表面小于光波长的表面结构已成为光学界的一门研究课题,其灵感来自于飞蛾眼睛上的纹理图案。表面纹理化仍然是一种发展中的技术,与传统的薄膜镀膜交替沉积高折射率材料和低折射率材料不同的是,它需要改变基片表面的结构。纹理表面上的特征可以是随机的或周期性的,犹如飞蛾眼睛的图案。对于亚波长结构化表面的制造,如果想要周期性的图案,我们可以采用光刻法,如果想要随机的图案,我们可以采用改进的等离子体蚀刻。镀膜工艺光学镀膜所涉及的制造工艺是劳动和资本密集型的,并且十分耗时。影响镀膜成本的因素包括被镀膜的光学件的数量,类型,尺寸,需要镀多少层膜以及光学件上需要镀膜的表面数量。镀膜采用的沉积工艺对镀膜成本以及镀膜性能方面的影响也十分巨大。此外,在这之前还需要做大量的准备工作,以确保每个镀膜光学件的质量都能达到最高水平。在镀膜之前,清洁和准备光学件是非常重要的。光学元件必须具有适合镀膜粘附的清洁表面。一旦镀上膜,基片上未预先除去的污渍就很难被去除了。爱特蒙特光学®会进行一丝不苟的清洁,从而确保最终产品拥有始终如一的高质量。不同的镀膜沉积技术,具有各自的优缺点。爱特蒙特光学®可以采用不同的镀膜沉积技术为您服务。请联系我们,告诉我们哪种镀膜技术最适合您的应用。图3:在离子辅助电子束沉积过程中,用离子枪瞄准光学表面可以增加镀膜的粘附力和密度Optical Monitor GlassQuartz XtalRate MonitorLightSourceION GunDetectorSubstrateHeatersE-GunEvaporationPlanetary DualRotation SubstrateHolder

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